Angewandte Oberflachenanalyse mit SIMS Sekundar-Ionen-Massenspektrometrie AES Auger-Elektronen-Spektrometrie XPS Rontgen-Photoelektronen-Spektrometrie

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In Anbetracht der rasch wachsenden Bedeutung der Oberflachenanalytik schien es angebracht, die drei Methoden, welche bereits in einem sehr hohen Masse fur die industrielle und forschungsbezogene Routineanalytik eingesetzt und haufig mit einander kombiniert werden, namlich SIMS, AES und XPS in einer Monographie darzustellen. Um die notwendige Tiefe der Darstellung zu erreichen, wurde dieses Buch nicht von einem Autor verfasst, sondern greift auf drei verschiedene Autoren mit unter schiedlichen Spezialkenntnissen zuruck. Dies garantiert dem Leser die direkte Ver mittlung von theoretischem und experimentellem Wissen auf entsprechendem Niveau fur die jeweiligen methodischen Teilgebiete. Anderseits ergeben sich dadurch gewisse Unterschiede in der Darstellungsweise und Symbolik zwischen den drei Kapiteln. Dies ist aber sicherlich von untergeordneter Bedeutung im Vergleich zu der durch Experten zu vermittelnden inhaltlichen Substanz. Die einzelnen Kapitel behandeln SIMS, AES und XPS hinsichtlich methodischem Prinzip, physikalischen Grundlagen, Geratetechnik, amilytischem Informationsgehalt, qualitativer und quantitativer Analyse und praktischem Einsatz fur aktuelle Frage stellungen der Oberflachenanalyse von Festkorpern - insbesondere aus dem Bereich der Werkstoffentwicklung. Die in den einzelnen Kapiteln angefuhrten Ergebnisse wurden im ubrigen mit Hochleistungsgeraten der neuesten Generation erhalten, so dass der derzeitig aktuelle Leistungsstand der- Methodik dargestellt wird. Der Leser soll damit nicht nur eine Methode im Detail kennenlernen konnen, sondern auch durch die Anfuhrung zahlreicher fur das experimentelle Arbeiten wichtiger Daten einen Einstieg in den praktischen Einsatz der Methoden erhalten.